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Board-AnsichtChemiefrage - beim Platinenätzen das Wasserstoffperoxid erse (Elektronik)
verfasst von A-Freak
, 13.02.2011, 10:59 Uhr
Ich weiß daß diese Frage nicht ganz zu dem Forum hier paßt, aber vielleicht kennt sich einer von euch doch gut genug mit Chemie aus um mir eine Antwort zu geben. Oder ihr habt einen Tipp wo ich ein offenes Chemieforum finde in dem diese Frage besser aufgehoben ist.
Meine Platinen habe ich mir bisher in bekannter Weise mit Salzsäure und Wasserstoffperoxid geätzt.
Soweit ich das aus Wikipedia und anderen Quellen zusammen bekomme ist das eigentliche Ätzmittel dabei CuCl2 das sich mit weiterem Kupfer zu 2* CuCl wandelt, letzteres wird durch HCl und H2O2 wieder zu 2* CuCl regeneriert.
Nun ist Wasserstofferoxid aufgrund einer gewissen Hysterie nicht mehr wie früher im Handel erhältlich, höchstens noch tröpfchenweise und stark verdünnt in der Apotheke. Ich suche daher einen Ersatz.
Insbesondere hätte ich die Idee die verbrauchte Ätzlösung zu elektrolysieren damit ich dabei zum einen das Kupfer und zum anderen das Chlor als Produkte bekommme. Wenn ich das Chlor wieder in Wasser löse bekomme ich "Chlorwasser" das sich bei Beleuchtung in Salzsäure und "aktiven" Sauerstoff zersetzt.
Könnte dieses Chlorwasser als Ersatz für HCl und H2O2 dienen um Platinen zu ätzen?
(Mit sehr geringem Erfolg ausprobiert habe ich es bereits, aber die Lösung war vielleicht zu verdünnt oder ich habe etwas anderes grundlegend falsch gemacht)
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