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Platinen mit H2O2 und HCL ätzen , Chemikalien woher? (Elektronik)

verfasst von cmyk61(R) E-Mail, Edenkoben, Rheinland Pfalz, 19.04.2013, 22:58 Uhr

» @cmyk61
» Naja, also Eisen(III)-Chlorid ist ne ziemlich dreckige Sache &
» Natriumpersulfat oder Ammoniumpersulfat muss man erwärmen auf ca. 50°C zum
» ätzen, das würde bei der Salzsäure entfallen und schneller gehen.
»
» Ja wahrscheinlich Cu(II)-Chlorid, weil es beim ätzen entsteht.

ja, aber erst wenn CU(II)-Chlorid vorhanden ist ätzt die Lösung so richtig gut. Und zwar genau in dem bereich in welchem sich dunkelgrüne Schleier in der Lösung zu bilden beginnen. Dann wirds technisch - mit H2O2 tropfenweise die Lösung in diesem Zustand halten. Zu wenig H2O2 - lösung ätzt zu langsam - zu viel H2O2 starke Gasbildung...

schau auch mal hier nach
http://www.aetzen.de/

http://books.google.de/books?id=bA36RgqcJ4kC&pg=PA513&lpg=PA513&dq=%C3%A4tzen+cucl2&source=bl&ots=sbNfhXjA0Q&sig=GX4NMYZB89ia-gU5YX02Beliw9k&hl=de&sa=X&ei=Ma9xUdiSC8_gtQbjqoFw&ved=0CE4Q6AEwBQ#v=onepage&q=%C3%A4tzen%20cucl2&f=false

Gruß Ralf



Gesamter Thread:

Platinen mit H2O2 und HCL ätzen , Chemikalien woher? - Seb, 18.04.2013, 20:26
Platinen mit H2O2 und HCL ätzen , Chemikalien woher? - xy(R), 18.04.2013, 21:43
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